SKO VT COSMETICS VT Cica Mild Skumrens 300 ml

VT Cica Mild Skumrens er en mild skumvask i flydende form designet til daglig ansigtsrensning. Produktet indeholder Centella asiatica-ekstrakt og er beregnet til skånsomt at rense ansigtet for urenheder og makeup uden at irritere følsom hud.

VT Cica Mild Skumrens kan integreres i din daglige hudplejerutine til ansigtsrensning. Påfør på fugtigt ansigt, skum op og skyl grundigt med vand for at fjerne urenheder og makeup.

Produktet indeholder vand, Natriumlaurylsulfat, Kokamidopropylbetain, Glycerin, Natriumchlorid, Centella asiatica-ekstrakt, Panthenol, Allantoin, Fenoxyethanol og Methylisothiazolinon. Disse ingredienser arbejder sammen for at give en mild og effektiv rensning.

Ja, VT Cica Mild Skumrens er designet til at give en skånsom rensning og er egnet til følsom hud. Centella asiatica-ekstraktet og Panthenol hjælper med at berolige og beskytte huden under rensningen.

Ja, VT Cica Mild Skumrens er beregnet til at fjerne både urenheder og makeup fra ansigtet. Den er en effektiv daglig renseløsning til grundig rensning af huden.

Nej, VT Cica Mild Skumrens indeholder ingen deklarationspligtige allergener i henhold til gældende regler. Hvis du har følsomhed over for specifikke ingredienser, anbefales det at kontrollere ingredienslisten nøje.

Centella asiatica-ekstrakt er en naturlig ingrediens kendt for sine beroligende egenskaber. I VT Cica Mild Skumrens bidrager dette ekstrakt til at give en skånsom rensning, der er egnet til irriteret eller følsom hud.

VT Cica Mild Skumrens leveres i en 300 ml emballage, hvilket giver tilstrækkeligt indhold til regelmæssig daglig brug over en længere periode.

Panthenol og Allantoin er beroligende og fugtgivende ingredienser, der hjælper med at beskytte hudbarrieren under rensningen. De bidrager til at holde huden blød og velplejet, selv ved daglig brug.

Ja, VT Cica Mild Skumrens er specifikt designet til daglig ansigtsrensning. Den milde formulering gør den egnet til regelmæssig brug som en del af din daglige hudplejerutine.